System ermöglicht die komplette Prozessierung von Siliziumscheiben innerhalb eines Beckens.
In herkömmlichen Ätzbanksystemem, die mit Kaskaden Spül-und Ätzbecken ausgestattet sind, müssen die Wafer manuell oder halb-automatisiert mit einem Greif-und Hebesystem von einem Becken in das nächste gehoben werden. Neben der mechanischen Beschädigung der Wafer, den Tropfverlusten und der Gefahr mit dem Umgang der hoch reaktiven und teilweise giftigen Säuren, ist vorallem die Prozessstabilität, dh. die Zeitintervalle zwischen dem Spülen, Ätzen und Trocknen problematisch.
Um all diese Prozessschritte in einem System zu vereinen, hat atp GmbH ein neuartiges Einkammer-Ätzbecken entwickelt.
Im neu designten Ein-Kammer-Ätzbecken können Einzelwafer oder Carrier manuell oder automatisiert platziert werden und alle nötigen Prozesschritte durchlaufen.
Über eine Steuerung wird ein Programm gestartet, welches die Prozesskammer mit den unterschiedlichen Chemikalien (bspw. Säuren in unterschiedlicher Konzentrationen) sowie destilliertem Wasser und anderen Additiven (wie Tensid-Lösungen, Härtern und Antioxidanzien) flutet und entleert. Durch diese Prozessierung werden die Wafer weniger mechanisch beansprucht und die Ausschussquote stark verringert.